中国DUV量产叠加AI资本开支担忧等因素,引发美韩半导体板块抛售,韩国KOSPI指数触发熔断
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Citrini分析师:中国DUV取得进展并不意外,ASML等半导体设备股抛售过度
火星财经消息,7 月 28 日,Citrini 分析师 Jukan 在社交媒体发文表示,中国在 DUV 光刻技术方面取得进展的消息并不特别令人意外,市场此前已对此形成一定预期。他指出,The Information 的相关报道仅援引中国某所交通大学教授在 6 月一次内部会议上的发言,并未披露更多实质性信息。Jukan 认为,受此消息影响,ASML 等半导体设备股出现的抛售反应过度。 此前报道,据 The Information 援引知情人士消息,一家获中国国有资本支持的企业已开始量产自主研发的 DUV(深紫外)光刻机制造设备,标志着中国半导体产业国产化替代取得关键进展。 消息人士称,该企业计划于 2026 年生产约 5 台国产 DUV 光刻机,并在 2027 年扩大至约 20 台。虽然与荷兰光刻机巨头 ASML 去年交付 131 套浸没式 DUV 光刻系统相比仍存在差距,但国产设备进入量产阶段,被市场视为中国芯片供应链自主化的重要突破。
Morgan Stanley分析师转向看空存储,Citrini分析师称或为KOSPI回调因素之一
Odaily星球日报讯 Citrini 分析师 Jukan 在 X 平台发表示称,市场流传的一份摩根士丹利研究报告显示,分析师 Shawn Kim 已转向看空存储芯片行业。报告认为,NAND 模组厂库存已升至约 13 周,需求明显降温,预计第四季度 NAND 价格涨幅将放缓至约 5%,现货价格已连续两个月下跌;同时,长鑫存储(CXMT)正快速扩大产能,供需逐步趋于平衡。报告还指出,若 NAND 行情转弱,DRAM 亦应同步看空,并预计 HBM 市场增速将受限于约 40%。 Jukan 表示,其已向消息人士核实该报告属实,并称 Shawn Kim 近期一直持类似观点,这或是韩国 KOSPI 指数近几周持续回调的原因之一。
Citrini分析师:中国CXMT测试键合DRAM试产线,韩媒称其技术与开发速度或领先韩国对手
Odaily星球日报讯 Citrini 分析师 jukan 在 X 平台发文表示,韩媒报道称中国 CXMT 目前正在合肥测试一条键合 DRAM 试产线,目标是在不使用 EUV 光刻的情况下实现高性能 DRAM。键合 DRAM 是一种将存储单元阵列与外围电路分别在不同晶圆上制造、随后进行键合的技术。该方法可仅使用多重图形化的深紫外 DUV 光刻生产超高密度 DRAM,并不需要 EUV 设备。 Samsung Electronics 正在“B1b”项目下开发自有键合 DRAM,SK hynix 也在推进类似技术。韩媒警告称,有评估认为 CXMT 目前可能在该技术本身及开发速度方面领先韩国竞争对手。
中国光刻机进入「DeepSeek时代」?国产DUV量产消息引发全球芯片股重挫
BlockBeats 消息,7 月 27 日,据 The Information 援引知情人士消息,一家获中国国有资本支持的企业已开始量产自主研发的 DUV(深紫外)光刻机制造设备,标志着中国半导体产业国产化替代取得关键进展。 消息人士称,该企业计划于 2026 年生产约 5 台国产 DUV 光刻机,并在 2027 年扩大至约 20 台。虽然与荷兰光刻机巨头 ASML 去年交付 131 套浸没式 DUV 光刻系统相比仍存在差距,但国产设备进入量产阶段,被市场视为中国芯片供应链自主化的重要突破。 据悉,首批国产 DUV 设备计划交付至中芯国际、华虹半导体以及存储芯片厂商长鑫存储等国内芯片制造企业。其中,长鑫存储作为中国 DRAM 产业代表企业,有望成为国产先进半导体设备的重要应用场景。 受消息影响,全球半导体市场出现剧烈波动。美股存储芯片板块集体下跌,其中闪迪跌约 12.9%,西部数据跌约 8.6%,希捷科技跌约 6.9%,美光科技跌约 6.6%,SK 海力士跌约 8.6%。荷兰 ASML 及贝思半导体股价一度下跌 8% 以上并触发自动停牌,德国半导体企业英飞凌亦走低。 市场人士认为,若国产 DUV 设备能够在长鑫存储等厂商产线中实现稳定运行,可能进一步削弱中国芯片制造对海外关键设备的依赖,并改变全球半导体设备竞争格局。此次市场反应显示,国产光刻机量产进展已成为影响全球半导体产业链估值的重要变量。
受“国产DUV光刻机开始量产”影响,ASML美股盘中跌超7%
Odaily星球日报讯 受“某国企已开始量产 DUV 光刻机”消息影响,荷兰光刻机制造巨头 ASML Holding(ASML)美股盘中跌超 7%,暂报约 1633 美元。 此前消息,The Information 援引知情人士消息,一家获中国国有资本支持的企业已开始量产自主研发的 DUV(深紫外)光刻机制造设备,这是中国半导体产业推进国产化替代的重要进展。
中国自主DUV光刻机启动量产,长鑫存储或成为首批应用客户
BlockBeats 消息,7 月 27 日,据 The Information 援引知情人士消息,一家获中国国有资本支持的企业已开始量产自主研发的 DUV(深紫外)光刻机制造设备,这是中国半导体产业推进国产化替代的重要进展。 据悉,该企业计划于 2026 年生产约 5 台 DUV 光刻机,并在 2027 年扩大至约 20 台。虽然与荷兰光刻机巨头 ASML 的产能仍存在差距(ASML 去年交付 131 套浸没式 DUV 光刻系统),但国产 DUV 设备突破量产意味着中国芯片制造供应链进一步向自主可控迈进。 消息人士称,这批国产 DUV 光刻机计划交付给中国主要芯片制造商,包括中芯国际、华虹半导体以及存储芯片厂商长鑫存储。 其中,长鑫存储作为中国 DRAM 产业代表企业,预计将成为国产先进半导体制造设备的重要应用方。若国产 DUV 设备能够在长鑫存储等厂商产线中实现稳定运行,将进一步降低中国存储芯片产业对海外关键设备的依赖。