ASML 推进新一代光刻机升级，瞄准大型数据中心芯片市场
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台积电将于 2030 年起量产采用 ASML 高 NA EUV 光刻机
ChainCatcher 消息，台积电 9 月 8 日宣布，将从 2030 年起在量产中采用荷兰 ASML 制造的极端紫外线（EUV）光刻装置新型“高 NA”机。双方同日还表示，将开展行业横断的高 NA 机改良工作。ASML 垄断供应用于形成纳米级超微细电路的 EUV 光刻机，并于 2023 年 12 月起开始出货可描绘更细电路的高 NA 机。英特尔已引入高 NA 机，台积电此前因成本高等原因推迟量产采用。台积电与 ASML 将启动行业横断项目，把作为电路原版的光掩模从目前的 6 英寸（约 15 厘米）方形大型化为 12 英寸方形，并开发对应大型掩模的高 NA 机及相关部件。计划于 2031 年前设立大型掩模试制产线，2033 年前使对应大型掩模的高 NA 机达到可投入先进半导体生产的状态。主要半导体制造商及掩模企业等已对参与表示兴趣。高 NA 机可描绘更细电路，但单次可描绘面积减为传统机型的一半，绘制大型芯片电路时需分多次曝光，工序复杂、成本上升。通过光掩模大型化可扩大曝光面积、降低成本。台积电董事长兼首席执行官魏哲家当日表示，将汇集全行业专业知识，持续推进使先进技术可广泛使用的技术创新，并传递其益处。
三星与ASML合作开发下一代EUV光刻掩模版
BlockBeats 消息，9 月 9 日，据首尔经济日报，三星电子将与全球最大的光刻设备制造商 ASML 共同开发高数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻技术。三星正参与一项旨在推动行业标准转变的工作，即将自 20 世纪 80 年代以来一直使用的 6 英寸光掩模版转向 12 英寸版本，并力争率先基于高 NA EUV 设备建立 DRAM 量产体系。 三星计划从 2028 年开始将高 NA EUV 设备应用于 DRAM 生产，随后进一步将这项技术扩展至 1.4 纳米先进逻辑工艺，以推动其晶圆代工业务发展。扩大掩模版尺寸旨在弥补 EUV 技术的局限。高 NA EUV 的数值孔径比传统 EUV 高 66%，能够形成更加精细的电路图案。将目前使用的 6 英寸掩模版替换为 12 英寸掩模版，可以提高晶圆厂生产效率并降低芯片制造成本。
阿斯麦赢得台积电和三星承诺，使用其新一代EUV光刻机
火星财经消息 9月8日，荷兰光刻机制造商阿斯麦（ASML）连续发布三则公告，宣布与台积电、三星电子及英特尔晶圆代工（Intel Foundry）推进高数值孔径（High NA）极紫外光刻（EUV）技术应用。其中，台积电计划自2030年起将阿斯麦High NA用于先进制程大规模生产；三星计划于2028年前首次将High NA用于DRAM大规模生产。英特尔则表示，目前已处理超过100万片采用High NA相关技术的晶圆。（广角观察）
三星拟于2028年前将高NA EUV用于DRAM量产
火星财经消息 9月8日，三星电子与阿斯麦（ASML）宣布扩大战略合作。三星将加入推动12英寸光罩技术发展的行业合作计划，并计划于2028年前首次将阿斯麦高数值孔径（High NA）极紫外光刻（EUV）技术用于DRAM大规模生产。三星表示，12英寸光罩有望提高晶圆厂生产效率、降低芯片制造成本，并减少光罩拼接限制。高NA EUV则有望延长DRAM制程微缩路线，通过更高分辨率简化工艺并提升生产效率。三星还将与行业合作伙伴共同开发12英寸光罩技术及配套基础设施。（广角观察）
英特尔与阿斯麦推进高NA EUV量产，已处理超100万片晶圆
火星财经消息 9月8日，英特尔晶圆代工（Intel Foundry）与阿斯麦（ASML）宣布，双方正持续推进高数值孔径（High NA）极紫外光刻（EUV）技术的量产应用。英特尔目前已通过早期设备认证、研发及部分量产环节处理超过100万片晶圆，高NA EUV已用于英特尔酷睿Ultra 3系列处理器“Panther Lake”部分层的量产。英特尔表示，采用高NA EUV的英特尔18A制程产品性能达到或超过使用传统0.33数值孔径EUV光刻平台的同类层。双方还将继续推动光罩从目前的6英寸向6×12英寸大尺寸光罩过渡，同时通过光罩拼接技术，让客户在现有6英寸光罩条件下获得高NA EUV的部分优势。（广角观察）
阿斯麦与台积电推动高NA EUV光罩向12英寸升级，计划2031年建立试产线
荷兰光刻机制造商阿斯麦（ASML）与台积电宣布成立行业合作计划，推动高数值孔径（High NA）极紫外光刻（EUV）光罩从目前的6英寸向12英寸升级，以提高晶圆厂生产效率、降低芯片制造成本并消除拼接限制。双方计划于2031年建立12英寸光罩试产线，并推动12英寸高NA EUV光刻系统于2033年进入先进制程量产。台积电预计自2030年起在先进制程大规模生产中采用ASML高NA技术。（界面）