ASML 首席财务官：限制对华销售 DUV 设备将适得其反
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Citrini分析师：中国DUV取得进展并不意外，ASML等半导体设备股抛售过度
火星财经消息，7 月 28 日，Citrini 分析师 Jukan 在社交媒体发文表示，中国在 DUV 光刻技术方面取得进展的消息并不特别令人意外，市场此前已对此形成一定预期。他指出，The Information 的相关报道仅援引中国某所交通大学教授在 6 月一次内部会议上的发言，并未披露更多实质性信息。Jukan 认为，受此消息影响，ASML 等半导体设备股出现的抛售反应过度。 此前报道，据 The Information 援引知情人士消息，一家获中国国有资本支持的企业已开始量产自主研发的 DUV（深紫外）光刻机制造设备，标志着中国半导体产业国产化替代取得关键进展。 消息人士称，该企业计划于 2026 年生产约 5 台国产 DUV 光刻机，并在 2027 年扩大至约 20 台。虽然与荷兰光刻机巨头 ASML 去年交付 131 套浸没式 DUV 光刻系统相比仍存在差距，但国产设备进入量产阶段，被市场视为中国芯片供应链自主化的重要突破。
受“国产DUV光刻机开始量产”影响，ASML美股盘中跌超7%
Odaily星球日报讯 受“某国企已开始量产 DUV 光刻机”消息影响，荷兰光刻机制造巨头 ASML Holding（ASML）美股盘中跌超 7%，暂报约 1633 美元。 此前消息，The Information 援引知情人士消息，一家获中国国有资本支持的企业已开始量产自主研发的 DUV（深紫外）光刻机制造设备，这是中国半导体产业推进国产化替代的重要进展。
ASML 将韩国光刻设备零部件价格统一上调 10%
火星财经消息，光刻设备制造商 ASML 将对供应韩国的更换用设备零部件价格统一上调 10%，对象包括极紫外（EUV）与深紫外（DUV）光刻设备的全部零部件，自明年 1 月供货起适用。据 10 日业界消息，ASML 总部上月初通过韩国法人向三星电子与 SK 海力士提出该方案，经双方采购部门协商后确定；定期采购的消耗性零部件，以及因故障或性能下降而更换的主要部件均纳入涨价范围。光刻设备包含光学系统、光源、精密驱动装置等大量部件，持续运转成本将上升。ASML 以往多在原材料大涨或特定材料采购困难时单独调整相关零部件价格，统一上调 10% 属罕见。一位半导体业界人士称，零部件构成要素整体涨价，同时也有客户盈利后 ASML 希望多拿利润的因素。ASML 单独统计已安装设备的服务、零部件与升级收入，去年该收入为 81.93 亿欧元，占整体收入 326.67 亿欧元的 25%，公司预计今年该收入增长超过 30%。报道称，零部件之后，新下单的 ASML 设备价格也很可能上涨，公司正与主要客户讨论设备涨价。美国 The Information 今年 7 月报道，ASML 曾通知中国半导体企业等将 DUV 设备价格上调 10%，部分客户已接受，最大客户台积电据称反对设备涨价。
Pudgy Penguins 支持的以太坊 L2 网络 Abstract 将于 12 月 15 日关停
ChainCatcher 消息，由 Pudgy Penguins 母公司 Igloo Inc. 支持的消费级以太坊 Layer 2 网络 Abstract 宣布将逐步停止运营，并于 2026 年 12 月 15 日正式关停主网。官方给出的原因是增长停滞、流动性稀薄、DeFi 生态受限以及机构采用不足。Abstract 提示用户须在关停日期前将资产跨链转出，否则可能无法访问资金。Abstract 表示，该网络已部署超过 144 个应用，并通过与 Red Bull Racing、Disney 等品牌的消费级合作累计引入逾 40 万名用户，但行业自项目构思以来已发生显著变化，专注于消费级加密的独立链模式最终被证明难以持续。Igloo 在过去 18 个月持续为 Abstract 提供资金，CEO Luca Netz 透露累计亏损达数千万美元，Igloo 现将资源转向 Pudgy Penguins 与 PENGU。2024 年 7 月，Igloo 完成由 Founders Fund 领投的超 1100 万美元融资，用于开发 Abstract 并借助 Pudgy Penguins 的分发能力将消费者引入链上，该网络于 2025 年 1 月上线主网。Netz 表示，Igloo 最终决定不发行 Abstract 代币，也不以牺牲 Pudgy Penguins 业务为代价继续为该网络提供资金。
Eleanor Terrett：Clarity Act 表决前谈判紧张，谈判进入最后倒计时约 1 小时
ChainCatcher 消息，Crypto In America 主持人 Eleanor Terrett 发文称，距离参议员就 Clarity Act 进行表决仅剩约一小时，国会山谈判人员气氛紧张，谈判进入最后关头。民主党仍坚持对法案伦理条款的修改。任何进一步调整可能需要白宫再次批准，相关人士均意识到时间所剩无几。一名民主党消息人士表示：大量艰苦工作正在进行，但时间非常紧迫。一名共和党消息人士也表达了类似看法。一名业内人士当天在国会山告诉她，在与议员交谈后，预计该法案将无法获得推进所需的 60 票。她同时表示，这是国会，任何事情都有可能发生。
台积电将于 2030 年起量产采用 ASML 高 NA EUV 光刻机
ChainCatcher 消息，台积电 9 月 8 日宣布，将从 2030 年起在量产中采用荷兰 ASML 制造的极端紫外线（EUV）光刻装置新型“高 NA”机。双方同日还表示，将开展行业横断的高 NA 机改良工作。ASML 垄断供应用于形成纳米级超微细电路的 EUV 光刻机，并于 2023 年 12 月起开始出货可描绘更细电路的高 NA 机。英特尔已引入高 NA 机，台积电此前因成本高等原因推迟量产采用。台积电与 ASML 将启动行业横断项目，把作为电路原版的光掩模从目前的 6 英寸（约 15 厘米）方形大型化为 12 英寸方形，并开发对应大型掩模的高 NA 机及相关部件。计划于 2031 年前设立大型掩模试制产线，2033 年前使对应大型掩模的高 NA 机达到可投入先进半导体生产的状态。主要半导体制造商及掩模企业等已对参与表示兴趣。高 NA 机可描绘更细电路，但单次可描绘面积减为传统机型的一半，绘制大型芯片电路时需分多次曝光，工序复杂、成本上升。通过光掩模大型化可扩大曝光面积、降低成本。台积电董事长兼首席执行官魏哲家当日表示，将汇集全行业专业知识，持续推进使先进技术可广泛使用的技术创新，并传递其益处。